
應用領(lǐng)域
薄膜測量
薄膜測量系統是基于白光干涉的原理來(lái)確定光學(xué)薄膜的厚度。白光干涉圖樣通過(guò)數學(xué)函數被計算出薄膜厚度。對于單層膜來(lái)說(shuō),如果已知薄膜介質(zhì)的n和k值就可以計算出它的物理厚度。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件內包含有一個(gè)大部分常用材料和膜層n和k值的內置數據庫。 AvaSoft-Thinfilm系統可以測量的膜層厚度從10 nm到50 um,分辨率可達1 nm。 薄膜測量應用于半導體晶片生產(chǎn)工業(yè),此時(shí)需要監控等離子刻蝕和沉積加工過(guò)程。還可以用于其它需要測量在金屬和玻璃基底上鍍制透明膜層的領(lǐng)域。其他領(lǐng)域中,金屬表面的透明涂層和玻璃襯底也需要嚴格測量。 AvaSoft-Thinfilm應用軟件能夠實(shí)時(shí)監控膜層厚度,并且可以與其他AvaSoft應用軟件如XLS輸出到Excel軟件和過(guò)程監控軟件一起使用。 薄膜測量的典型裝置如圖所示。